上海光源软X射线干涉光刻最新进展

同步辐射不但在物理、材料、生命科学等研究中发挥着重要的作用，而且还在极端制造领域发挥着自己独特的作用。吴衍青研究员介绍了上海同步辐射光源（简称上海光源）以软X射线干涉光刻技术（简称XIL技术）为核心的极端制造技术的最新进展。在微纳制造领域，XIL是一种独立于主流极端制造技术的独特并行制造技术。它专注于制造严格周期的图案。此外，还可以有效地获得大面积的高分辨率纳米结构。该技术目前已广泛应用于极紫外（EUV）光刻胶检测、纳米光学和纳米磁学等研究领域。中国科学院上海高等研究院/中国科学院上海应用物理研究所的吴衍青研究员、邰仁忠研究员、赵俊、杨树敏、薛超凡等作者在《极端制造》（International Journal of Extreme Manufacturing, IJEM）创刊号上发表《上海光源软X射线干涉光刻最新进展》综述，系统介绍了软X射线干涉光刻技术的研究背景、最新进展及未来展望。