用于制造 X 射线荧光分析全反射镜的 高质量表面精磨工艺

X 射线反射镜是一种能反射和聚焦短波长 X 射线（束）的反射光学元件，广泛应用于各种分析仪器中。为了有效表征 X 射线的光学和物理性质，各种反射镜形态须达到平均粗糙度在亚纳米级的高表面精度。便携式 X 射线元素分析仪基于全反射 X 射线荧光 (TXRF) 分析技术构建，应用于需要超痕量分析和高质量反射镜等多个领域。此类反射镜呈平面形态且尺寸小，由于其成本限制，需要提高生产率。另外，镜面需高度平滑，平均粗糙度范围应控制在几纳米之内。反射镜材料可选择硅、玻璃碳和石英玻璃。上述严格要求表明，必须采用创新的新型抛光工艺，将工序数量控制在合理范围内，并在有限时间内实现规定的表面粗糙度和质量。

本文研发了一种高效抛光的新型研磨工艺，使便携式 TXRF 光谱仪专用全反射镜的实际生产成为可能。