基于杯芳烃类抗蚀剂和场发射扫描探针光刻的单纳米制造技术

光刻（Lithography）是目前纳米图形化最主要的加工方法，能够实现高精度、大产量的微纳器件制造，但其高精度的实现需要极高精度的掩模版。扫描针尖光刻 （Scanning Probe Lithography）是实现高精度、低成本纳米的图形化技术之一，不仅可实现单分子尺度加工分辨率，而且能够运用同一探针图形化及结构表征，这是通过具有自我感知和自我驱动的“有源微悬臂”实现的。因此，在纳米电子、纳米光学器件制造及其它纳米技术应用方面有着巨大的潜能。场发射电子扫描探针光刻技术（Field-Emission Scanning Probe Lithography, FE-SPL），作为针尖光刻系列中一项极具潜力的技术，不仅通过低能量针尖场发射电子（大约100 eV）大幅度提高了图形化效率，而且实现了单纳米分辨率的图形加工。近期，德国伊梅瑙工业大学（Ilmenau University of Technology）Ivo Rangelow教授，FE-SPL技术的发明人，在《极端制造》国际期刊（International Journal of Extreme Manufacturing）以《基于杯芳烃类抗蚀剂和场发射扫描探针光刻的单纳米制造技术》为题发表长篇综述。该综述从加工原理、设备硬件、工艺条件、机理分析、环境扰动等方面系统地展示了场发射电子扫描针尖光刻技术，同时，也进一步分析该技术的瓶颈与挑战，以及未来发展方向。