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二维材料自限激光结晶与直写
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摘要: 最新发现的原子级薄度包含过渡金属硫化物的二维量子材料显示出在未来光电子学、光子学、传感和能源应用方面的巨大潜力。二维材料在不同基底上的直接生长、图案化和集成是实现其在下一代器件中应用潜力的重要步骤。然而,传统的气相生长技术与直接图案化工艺并不兼容。本文提出基于激光的二维材料合成和加工方法,该方法依赖于化学计量非晶薄层(约3-5nm)的自限激光晶化(SLLC)。这项技术主要利用了非晶态和晶态MoS2不同相之间的光学特性显著差异,允许特定设计的激光二维材料相互作用,以达到高质量和宽加工窗口的自限晶化现象。这种独特的激光加工方法可以实现高质量的结晶、直写和图案化,并将各种二维材料集成到未来的功能器件中。