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通过精确控制纳米旋转轨迹实现可变高度纳米光栅结构的顺铣成形加工
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摘要:
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1. 文章导读
本文介绍了一种基于纳米压头顺铣运动的纳米光栅成形方法，通过精确调节旋转轨迹的形状和尺寸，实现了可变高度纳米光栅结构的高质量加工。梳理了轨迹几何特征对未变形光栅面积及材料塑性变形的影响，并结合有限元仿真分析了光栅形成的加工机理。通过对理论分析和加工实验结果的定量指标评估，筛选出了最佳加工轨迹，总结了轨迹优化对光栅高度调控及其轮廓形状质量影响的关键作用。利用优化的半圆轨迹在周期400nm的间距下，加工得到了连续高度变化可达220nm的光栅结构，并保证了光栅高度和轮廓形状的一致性。
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