基于干法可转移光刻胶的近衍射极限晶圆级完美共形接触式光刻技术

研究论文开放获取

摘要:
研究论文 ● 开放获取阅读更多
1. 文章导读
本文提出一种低成本、晶圆级的衍射极限完美共形接触式光刻（PCCL）技术。
该技术利用低粘附可转移的光刻胶作为中间介质，确保光刻胶与掩模版之间实现零间隙软接触，有效缓解衍射限制并减少光学畸变，从而提高图案分辨率和保真度。实验和仿真研究证实，可转移光刻胶在PCCL工艺过程中能保持完整性，不会出现褶皱、断裂等损坏。此外，该技术还可兼容柔性、曲面等多种具有挑战性的复杂基材。由于其设备简单、分辨率高且适用于大面积制造，PCCL为大口径超透镜的批量制造提供了一种高效且可扩展的方法。PCCL在先进光学、柔性电子和功能器件制造领域展现出巨大的应用潜力。